金沢大学
 
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研究概要
 本研究室では、プラズマ援用化学気相堆積法および高周波スパッタリング法を利用して作製したシリコン系やカーボン系(ダイヤモンド、グラフェン)の半導体・絶縁体薄膜等について、基礎特性評価ならびにデバイス応用に関する研究を行っています。最近の主な研究テーマは、シリコンナノ結晶の生成・薄膜化技術や高品質半導体ダイヤモンド層の結晶成長、そしてそれらの高機能化・デバイス応用に関するものです。薄膜形成技術とナノスケールの超微細加工技術を駆使し、近接場光を利用した新しい機能要素の提案もしています。薄膜材料の設計や実験結果の解析には、計算機シミュレーション手法を積極的に取り入れています。