本研究室では、ダイヤモンド半導体やシリコン半導体、絶縁体薄膜等についてプラズマ援用化学気相堆積法や高周波スパッタリング法を利用して作製し、基礎特性評価ならびにデバイス応用に関する研究を行っています。最近の主な研究テーマは、高品質半導体ダイヤモンド層の結晶成長、加工、そしてそれらの高機能化・デバイス応用に関するものです。薄膜材料の設計や実験結果の解析には、計算機シミュレーション手法を積極的に取り入れています。 　現在、ダイヤモンド成膜装置が4台、ALD装置、AFM装置2台、LM装置、DM装置、ラマン分光装置、室温・高電圧・真空（高温）プローバー各種などなど、装置も充実しており、他大学、高専専攻科からの大学院進学者も募集しています。ダイヤモンドをやってみたい！という新しいもの好きはぜひ連絡をお待ちしています。